-
Al2O3 keramikas vafeļu patronas pielāgota apstrāde
Keramikas rezerves daļas, kas izgatavotas ar aukstu izostatisko presēšanu un saķepinātas augstā temperatūrā, pēc tam precīzi apstrādātas un pulētas, var atbilst visām stingrajām pusvadītāju iekārtu prasībām, pateicoties to nodilumizturībai, izturībai pret koroziju, zemai termiskajai izplešanai un izolācijai. Keramika var ilgstoši darboties daudzos pusvadītāju ražošanas iekārtās, kas darbojas augstā temperatūrā, vakuumā vai kodīgā gāzē.
Izgatavots no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda pulvera, apstrādāts ar aukstu izostatisku presēšanu, augstas temperatūras saķepināšanu un precīzu apdari, tas var sasniegt izmēru pielaidi ±0,001 mm, virsmas apdari Ra 0,1, temperatūras izturību 1600 ℃.
-
ST.CERA pielāgota pusvadītāju iekārtu keramikas plāksne
Keramikas rezerves daļas, kas izgatavotas ar aukstu izostatisko presēšanu un saķepinātas augstā temperatūrā, pēc tam precīzi apstrādātas un pulētas, var atbilst visām stingrajām pusvadītāju iekārtu prasībām, pateicoties to nodilumizturībai, izturībai pret koroziju, zemai termiskajai izplešanai un izolācijai. Keramika var ilgstoši darboties daudzos pusvadītāju ražošanas iekārtās, kas darbojas augstā temperatūrā, vakuumā vai kodīgā gāzē.
Izgatavots no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda pulvera, apstrādāts ar aukstu izostatisku presēšanu, augstas temperatūras saķepināšanu un precīzu apdari, tas var sasniegt izmēru pielaidi ±0,001 mm, virsmas apdari Ra 0,1, temperatūras izturību 1600 ℃.
-
12 collu alumīnija vakuuma patrona 300 mm vafeļu apstrādei
St.Cera 12 collu vakuuma patrona ir precīzi izgatavota no 99,8 % augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda (Al₂O₃) 300 mm plākšņu apstrādei. Patronai ir smalki rievota virsma (rievas platums 0,5–1,0 mm, solis 2–3 mm), lai nodrošinātu vienmērīgu vakuuma sadalījumu visā 300 mm diametrā. Plakanums tiek saglabāts 5 μm robežās, nodrošinot plākšņu fiksāciju bez deformācijas griešanas, aizmugures slīpēšanas un pārbaudes laikā. Materiāla augstā lieces izturība (361 MPa) un cietība (16 GPa) garantē ilgtermiņa izmēru stabilitāti pat atkārtotu vakuuma ciklu laikā.
-
Keramikas rezerves daļas pusvadītāju zondes iekārtām
Keramikas rezerves daļas, kas izgatavotas ar aukstu izostatisko presēšanu un saķepinātas augstā temperatūrā, pēc tam precīzi apstrādātas un pulētas, var atbilst visām stingrajām pusvadītāju iekārtu prasībām, pateicoties to nodilumizturībai, izturībai pret koroziju, zemai termiskajai izplešanai un izolācijai. Keramika var ilgstoši darboties daudzos pusvadītāju ražošanas iekārtās, kas darbojas augstā temperatūrā, vakuumā vai kodīgā gāzē.
Izgatavots no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda pulvera, apstrādāts ar aukstu izostatisku presēšanu, augstas temperatūras saķepināšanu un precīzu apdari, tas var sasniegt izmēru pielaidi ±0,001 mm, virsmas apdari Ra 0,1, temperatūras izturību 1600 ℃.
-
Keramikas plākšņu pusvadītāju iekārtu pārvadātājs
Keramikas rezerves daļas, kas izgatavotas ar aukstu izostatisko presēšanu un saķepinātas augstā temperatūrā, pēc tam precīzi apstrādātas un pulētas, var atbilst visām stingrajām pusvadītāju iekārtu prasībām, pateicoties to nodilumizturībai, izturībai pret koroziju, zemai termiskajai izplešanai un izolācijai. Keramika var ilgstoši darboties daudzos pusvadītāju ražošanas iekārtās, kas darbojas augstā temperatūrā, vakuumā vai kodīgā gāzē.
Izgatavots no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda pulvera, apstrādāts ar aukstu izostatisku presēšanu, augstas temperatūras saķepināšanu un precīzu apdari, tas var sasniegt izmēru pielaidi ±0,001 mm, virsmas apdari Ra 0,1, temperatūras izturību 1600 ℃.
-
Pusvadītāju iekārtu keramikas rezerves daļas
Keramikas rezerves daļas, kas izgatavotas ar aukstu izostatisko presēšanu un saķepinātas augstā temperatūrā, pēc tam precīzi apstrādātas un pulētas, var atbilst visām stingrajām pusvadītāju iekārtu prasībām, pateicoties to nodilumizturībai, izturībai pret koroziju, zemai termiskajai izplešanai un izolācijai. Keramika var ilgstoši darboties daudzos pusvadītāju ražošanas iekārtās, kas darbojas augstā temperatūrā, vakuumā vai kodīgā gāzē.
Izgatavots no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda pulvera, apstrādāts ar aukstu izostatisku presēšanu, augstas temperatūras saķepināšanu un precīzu apdari, tas var sasniegt izmēru pielaidi ±0,001 mm, virsmas apdari Ra 0,1, temperatūras izturību 1600 ℃.
-
Augstas tīrības pakāpes alumīnija keramikas blīvgredzens augstas temperatūras kameras blīvēšanai
St.Cera keramikas blīvgredzens ir izstrādāts kā alternatīva polimēru O veida gredzeniem ekstremālos apstākļos, kur elastomēri degradējas. Šis stingrais blīvgredzens, kas izgatavots no 99,8 % augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda (Al₂O₃), tiek izmantots statiskās blīvēšanas pielietojumos — parasti kopā ar mīksta metāla vai grafīta blīvi —, lai nodrošinātu uzticamu vakuuma vai gāzes izolāciju temperatūrā līdz 800 °C un agresīvā plazmas vai ķīmiskā vidē. Materiāls neizdala gāzes, tam ir augsta spiedes izturība (pamatnes lieces izturība 361 MPa) un ķīmiskā inertitāte (izturīgs pret halogēniem, skābēm un sārmiem, izņemot HF). Precīzi slīpētas blīvēšanas virsmas (plakanums ≤5 μm, virsmas raupjums Ra ≤0,2 μm) nodrošina hermētisku kontaktu ar atbilstošajiem metāla vai keramikas komponentiem.
-
Augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda kameras fokusēšanas gredzens plazmas kodināšanas un CVD sistēmām
St.Cera kameras fokusēšanas gredzens ir kritiski svarīga procesa komplekta sastāvdaļa, ko izmanto plazmas kodināšanas, CVD un PVD pusvadītāju iekārtās. Gredzens, kas izgatavots no 99,8 % augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda (Al₂O₃), ieskauj plāksnes malu, lai ierobežotu plazmu un optimizētu jonu leņķisko sadalījumu, tādējādi uzlabojot kodināšanas vienmērīgumu visā plāksnes virsmā. Materiāls piedāvā izcilu plazmas pretestību, augstu dielektrisko izturību (15 × 10⁶ V/m) un termisko stabilitāti līdz 1600 °C, nodrošinot ilgtermiņa uzticamību agresīvā fluora vai hlora plazmas vidē. Precīzi slīpēts iekšējais/ārējais diametrs un līdzenums (≤10 μm) nodrošina precīzu plāksnes malas pozicionēšanu, samazinot malu defektus un daļiņu veidošanos.
-
Augstas tīrības pakāpes alumīnija keramikas gredzens CVD/PVD procesa kamerām
St.Cera keramikas gredzens ir īpaši izstrādāts izmantošanai CVD (ķīmiskās tvaiku pārklāšanas) un PVD (fizikālās tvaiku pārklāšanas) procesa kamerās. Šis gredzens ir izgatavots no 99,8 % augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda (Al₂O₃), un tas kalpo kā kameras oderējums, fokusēšanas gredzens vai procesa komplekta sastāvdaļa, lai ierobežotu plazmu un aizsargātu kameras sienas no erozijas. Materiāls piedāvā izcilu plazmas izturību, augstu dielektrisko izturību (15×10⁶ V/m) un termisko stabilitāti līdz 1600 °C, nodrošinot ilgu kalpošanas laiku agresīvā fluora bāzes plazmas vidē. Precīzas izmēru pielaides (±0,05 mm uz iekšējā/ārējā diametra) un līdzenums (≤10 μm) nodrošina vienmērīgu vafeļu malu pozicionēšanu, uzlabojot nogulsnēšanās vienmērīgumu un samazinot daļiņu veidošanos.
-
Porains keramikas vakuuma patrons deformētu vafeļu apstrādei
St.Cera porainā keramikas patrona ir izgatavota no augstas tīrības pakāpes alumīnija oksīda ar vienmērīgu atvērto porainību 30–45% un poru izmēriem no 10 līdz 100 μm. Atšķirībā no parastajām rievotajām patronām, porainā virsma nodrošina izkliedētu vakuumu visā plāksnītes aizmugurē, efektīvi noturot deformētas, plānas vai atsevišķas plāksnītes bez malu pacelšanās vai lūzuma. Maigais vakuums (regulējams ar ierobežotāju) arī novērš aizmugurējās puses iezīmēšanos.
-
Alumīnija oksīda bāzes poraina keramikas vakuuma patrona plānu vafeļu apstrādei
St.Cera alumīnija oksīda porainā patrona ir izgatavota no 99,6 % augstas tīrības pakāpes Al₂O₃ ar kontrolētu atvērto porainību 30–45 % un vienmērīgu poru izmēru no 10 līdz 50 μm. Atšķirībā no rievotajām patronām, porainā virsma nodrošina izkliedētu vakuumu visā plāksnītes aizmugurē, novēršot malu izsmērēšanos un nodrošinot īpaši plānu (≤100 μm) vai deformētu plāksnīšu maigu noturēšanu. Materiāla lieces izturība ir ≥250 MPa un termiskā stabilitāte gaisā līdz 400 °C.
-
Alumīnija oksīda gāzes sadales plāksne CVD/PVD dušas galvai
St.Cera gāzes sadales plāksne (dušas galviņa) ir precīzi izgatavota no augstas tīrības pakāpes 99,8 % alumīnija oksīda keramikas. Tajā ir virkne mikrocaurumu (diametrs 0,3–1,5 mm), kas nodrošina vienmērīgu gāzes plūsmu pāri vafeļu virsmai CVD, PVD vai ALD procesu laikā. Plāksnes augstā dielektriskā izturība (>15 × 10⁶ V/m) un plazmas pretestība padara to neaizstājamu pusvadītāju plāno kārtiņu nogulsnēšanai.
